0371-5536 5392 0371-5519 9322
○ 產品介紹
PECVD石墨烯薄膜制備系統借助13.56MHz的射頻輸出等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內形成等離子體，利用等離子體的強化學活性，改善反應條件，使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。PECVD石墨烯薄膜制備系統設備可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種實驗場所。
○ 適用范圍
PECVD石墨烯薄膜制備系統設備可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種實驗場所。
○ 技術參數
多溫區加熱系統
序號
功能名稱
技術要求
01
工作溫度
室溫～1200℃,長期工作溫度≦1100℃
02
加熱區長度
三溫區加熱，各溫區可獨立控溫，恒溫區長度為550
03
控制模式
30段智能PID 多段程序控溫
04
控溫精度
±1℃
05
升溫速率
0～20℃/min
06
測溫元件
3支K型熱電偶
07
溫控保護
具有超溫和斷偶保護功能
08
爐管
高純石英管，能耐長期1100℃工作溫度
09
爐管尺寸
石英管外徑100mm
10
爐膛結構
開啟式
11
爐膛材料
進口纖維，保溫性能好，反射率高，溫場均勻
12
密封方式
真空不銹鋼水冷法蘭
13
閥門
KF25擋板閥
14
電源
380V/220V 50Hz
15
溫度記錄
可以實現溫度曲線記錄
16
爐殼溫度
≦45℃
單溫區加熱系統
序號
功能名稱
技術要求
01
工作溫度
室溫～1200℃,長期工作溫度≦1100℃
02
加熱區長度
單溫區加熱，恒溫區長度為200mm
03
控制模式
30段智能PID 多段程序控溫
04
控溫精度
±1℃
05
升溫速率
0～20℃/min
06
測溫元件
K型熱電偶
07
溫控保護
具有超溫和斷偶保護功能
08
爐管
高純石英管，能耐長期1100℃工作溫度
09
爐管尺寸
石英管外徑100mm
10
爐膛結構
開啟式
11
爐膛材料
進口纖維，保溫性能好，反射率高，溫場均勻
12
密封方式
真空不銹鋼水冷法蘭
13
閥門
KF25擋板閥
14
電源
380V/220V 50Hz
15
溫度記錄
可實現溫度曲線記錄
16
爐殼溫度
≦45℃
RF輸出系統
序號
功能名稱
技術要求
01
功率范圍
0～500W連續可調
02
工作頻率
13.56MHz+0.005％
03
工作模式
連續輸出
04
顯示模式
LCD
05
匹配阻抗范圍
能夠匹配，起輝輝光均勻布滿三溫區爐管
06
功率穩定度
≦2W
07
正常工作反射功率
≦3W
08
較大反射功率
≦70W
09
諧波分量
≦-50dBc
10
整機效率
≥70%
11
功率因素
≥90%
12
供電電壓/頻率
單相交流（187V～253V） 頻率50/60HZ
13
控制模式
內控/PLC 模擬量/RS232/485 通訊
14
電源保護設置
DC 過流保護，功放過溫保護，反射功率保護
15
冷卻方式
強制風冷
16
起輝長度
在Ar下射頻電源與線圈配合起輝輝光需能布滿整個三溫區的爐體長度
氣體流量控制
序號
功能名稱
技術要求
01
四路質子流量計
北京七星華創，質子流量計
02
流量范圍
MFC1量程：0～200sccm MFC2量程：0～200sccm
MFC3量程：0～500sccm MFC4量程：0～500sccm
分別對應氣體 H2、CH4、N2、Ar
03
測量精度
±1.5％F.S.
04
重復精度
±0.2% FS
05
線性精度
±1％F.S.
06
響應時間
≤4sec
07
工作壓力
-0.15MPa～0.15MPa
08
流量控制
液晶觸摸屏控制，數字顯示，每路氣體含有針閥單獨控制
09
進氣接口
可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管
10
出氣接口
可接1/4NPS或外徑6mm不銹鋼管
11
連接方式
雙卡套接頭
12
工作溫度
5～45℃
13
氣體預混
配氣體預混裝置
真空要求
序號
功能名稱
技術要求
01
真空泵
配置進口或國產真空泵，爐管背景真空達5×10-1 Pa
02
系統漏率
≤1.4×10-3 Pa.L/s
03
真空測量
Inficon防腐蝕超純陶瓷傳感器
04
真空測量范圍
0.01Pa～1000Pa，測量精度0.2％
05
真空壓力表
配置一個通用真空壓力表用于系統真空粗測
06
連接管道
不銹鋼波紋管，手動擋板閥與法蘭與真空泵連接
軌道功能
序號
功能名稱
技術要求
01
滑軌長度
2.5米～3米，能實現三溫區爐子一個爐位長度的滑動，實現快速升降溫
02
主要參數
手動滑動，可實現管式爐和等離子體發生器的滑動控制，達到快速降溫，射頻放射調節
03
特殊定制
軌道上安裝方便拆卸的法蘭支架，用以支撐爐管長度改變時的端口法蘭；單溫區爐子可以拆裝至滑軌上與等離子體源配合使用；等離子體發生器可以拆卸
○ 滑軌需要滿足的要求
（1）常用方式是：等離子體發生器+三溫區爐配合，其中導軌可以讓三溫區爐有一個爐位的滑動；
（2）希望的搭配使用方式1是：等離子體發生器+單溫區管式爐；
（3）希望的搭配使用方式2是：單溫區管式爐+等離子體發生器+三溫區爐（此時三溫區爐不需要滑動快速升降溫）
需要做到單溫區爐體能夠比較方便地裝到（1）方式的滑軌上，并且石英管兩端的法蘭支架可以在導軌長度內調節，能滿足不同爐管長度條件下對法蘭的支撐。
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